[포토공정] 마스크와 펠리클

마스크(Mask)

마스크는 반도체 회로 패턴이 새겨진 금속 원판으로 노광 공정 때 웨이퍼 위에 배치되어 사용된다. 마스크를 통과한 빛은 포토레지스트(PR)를 도포한 웨이퍼에 닿아 화학 반응을 거쳐 실제 패턴을 생성한다.

마스크

펠리클(Pellicle)

마스크 위에 씌워지는 얇은 박막 덮개로 마스크의 보호 역할을 한다. 노광 작업 중 마스크 오염을 보호하면서 불량 패턴을 최소화하고 마스크 활용 시간을 늘리는 역할을 한다.

펠리클